jc004硅材料抛光浆料是深圳晶材化工有限公司生产的新一代水溶性高纯胶体浆料，广泛应用于硅晶片抛光工艺中。该类产品在实际应用中凭借粒径、高浓度、高纯度、低金属离子污染等的性能得到了客户的充分肯定。 主要特点 jc004型硅材料抛光浆料用特选的纳米级sio2水溶胶作为磨料。具有金属杂质沾污极少、易清洗、抛光速率高、损伤层小、平整度高等特点。在抛光中根据需要可以优化不同配比，均能达到优秀使用效果。与美国和日本的同类产品相比，该类产品具有浓缩度高、磨料粒径小、表面张力小、对有机物、金属离子及颗粒容易清洗、抛光速率高（0.8~1.5μm/min）、高温不出现非均化蚀坑等优点。 主要用途 主要用于多重扩散硅片的高质量抛光，也可用于原始锗、石英、二氧化硅、蓝宝石等材料的抛光工艺，还可用于扩散片的抛光。 基本参数 检测项目 检测方法 指标值 外观 目测 乳白色液体 固含量（%） 重量法 40±2 ph值(20℃) ph计 11.5-12.5 粒径(nm) 激光粒度分析仪 80±10 密度 (20℃，g/ml) 密度计 1.27-1.30 使用方法 建议jc004浆料和去离子水的配比为1:10，也可根据实际工艺要求改变配比。 运输及保存 1.运输与存放温度为5℃~50℃，存放时应避光，以避免浆料变质。 2.保质期一年，建议半年内使用。 3.避免金属、颗粒污染，避免强电解质的接触 包装规格:25kg/桶。